关于举办tftlcd专业知识培训的通知

1. 谁能说说液晶屏（TFT）的各个电源的（VCC VSN VSP VGH VGL VCOM RESET）信号的一些知识。

VCC：供电电源 ，这没啥好说的；

VSN、VSP ： 液晶驱动电源， 就是可以给控制像素点透光的电容充电，一个正电压一个负电压，还有一种做法是只有一个正电压叫AVDD；

VGH、VGL： 像素点上开关管的开启关闭电压，加在开关管的栅极上，VGH 高电平打开给像素点电容充电， VGL 负电压 关闭开关管；

VCOM： 液晶像素点的存储电容共用电极；

RESET： 液晶屏的重启引脚；

(1)关于举办tftlcd专业知识培训的通知扩展阅读：

VCC：C=circuit 表示电路的意思, 即接入电路的电压， D=device 表示器件的意思, 即器件内部的工作电压，在普通的电子电路中，一般Vcc>Vdd ! 有些IC 同时有VCC和VDD， 这种器件带有电压转换功能。 C=circuit 表示电路的意思, 即接入电路的电压，在电子电路中，VCC是电路的供电电压

VCC（或Vcc）是之前TTL（Transistor-Transistor-Logic，晶体管-晶体管逻辑）技术时代的遗存。TTL元件中，输入和输出的三极管驱动电路设计成共集电极方式。VCC（或Vcc）的意思就是共集电极上的电压（Voltage of the Common Collector）。

2. tft lcd 的基本知识

转别人的 回答
下面我来分别介绍一下STN LCD和TFT LCD。TFT在强光下依然可见，但其他的在中午太阳下，屏幕就看不清了
STN LCD表面上看仅仅使增加了液晶分子的扭曲角，但实际上却远非如此，因为增大的扭曲角，使得液晶的另一种特性呈现出来，就是前面我提到的双折射性。外界光线入射上偏光片之后变成一束线偏振光，但是线偏振光在经过液晶分子层的时候不再仅仅是扭曲偏振方向了，而是分解为两束光线——寻常光和非寻常光，这两束光线在出射的时候互相干涉，从而使得STN LCD在不加电的时候总是呈现出一定的底色（比如绿色和蓝色）。因此我们可以看出，STN LCD和显示原理和TN LCD是从根本上完全不同的，它利用了液晶的双折射性。人们为了消除STN LCD的底色想了很多办法，最简单的就是利用一个完全一样，但是旋向相反的两个STN LCD盒叠加在一起，使得互相干涉的两束光线又互相补偿回来，从而实现黑白显示，这就是DSTN（Double STN），但是DSTN的造价太高了，于是人们想到用一层碘分子的定向扭曲来模拟一个液晶盒，这样就用一层薄膜（位相差板）替代了一个液晶盒，从而实现黑白显示，这种叫做FSTN（Film STN）。到目前为止，我可以说所有的黑白手机屏全部都是FSTN型。STN LCD的特点是宽视角，大容量显示，缺点是响应速度慢，因为多路驱动的存在使得STN的对比度要比TN下降很多。
STN LCD的彩色化，就是我们所说的CSTN（Color STN）。它其实就是一个FSTN屏加上一层彩膜。用RGB三个像素点来组成一个显示像素点。CSTN的基本显示原理和STN完全一样，因此它也继承了STN LCD所有的优缺点，响应速度慢是它的致命伤。目前的部分Samsung手机使用的UFB LCD其实还是一个CSTN，只不过它在整屏的透过率上略有提高，然后利用插值计算提升至65K色，说到底还是一个普通的CSTN，UFB，只不过是Samsung的一个概念而已。目前市面上的许多彩屏手机都是CSTN，只有一些高档的彩屏手机才使用 TFT LCD。比如GD88，N8和T108。
TFT LCD其实是TN LCD的扩展和彩色化（倒不是TFT不能做黑白，而是因为TFT的成本高，做黑白的没有意义）。TFT的基本显示原理和我前面介绍的TN LCD完全一样，只是利用了旋光性，只不过它为每一个像素点设置一个开关电路来，以此做到完全的单独的控制一个像素点。因为可以单独控制一个像素点，因此可以将对比度提升至很高，灰度实现也更加容易，结果就是可以轻易实现更鲜艳的色彩；TFT也继承了TN型快速响应的特性，另外，额外的LC Film也有助于提高TFT的视角范围。高对比度，高响应，宽视角，大容量显示，TFT几乎可以说是目前最完美的LCD产品，因此也毫无疑问，使用TFT的手机也毫无疑问的成为了高档手机。
还有一种TFD LCD，和TFT非常相似，只不过将场效应管变成了二极管而已，不是主流产品。顺带提一下。
总结一下，我们使用的黑白机，都是用FSTN LCD。彩屏分为CSTN（绝大多数，包括UFB）和TFT（高档）两种。CSTN响应速度慢，色彩不丰富，不够饱满，只是低档的彩屏。TFT除了耗电量较CSTN大之外，所有性能上都超越CSTN很多，只要你银子够多，TFT手机肯定会让你满意

3. 请问，进入TFT-LCD制造业，应聘的职位是设备工程师，应该具备的基本技能是什么，需要学习哪方面的知识

作为设备工程师首先要懂的就是一些机械,电路的基本知识,最起码的要看懂设备的一些简单图纸~
另外就是有些设备会要求一些软件能力,这个在TFT-LCD应该运用不多,都是成熟的设备,都有图形界面的~
如之前朋友所说,Array, CELL最好是了解化学知识,毕竟接触的化学药剂会很多,除了工作上,对自己的保护也很有帮助
Mole的话就是机械的东西更多一些~
其实,说简单一些,作为一个设备工程师,最重要的就是多学多看,自己再多想想,设备的工作原理什么的弄懂了都不难,尤其现在的设备全都是备件更换,能够找到问题出在哪里就能够解决了~
如果再多学一下设备的调整,根据产线产品要求调整设备,提高良率,那就是优秀工程师
第一步,保证不宕机,第二步,提高稳定性,仅此而已~

4. TFT LCD crosstalk原理（最好要附电路说明的）

Crosstalk一般为Source Line上的讯号干扰VCOM所造成，VCOM为储存电容及液晶电容的共电极，一般发版生Crosstalk的原因为Source Line变化时不匹配，一般不同权条Source Line的极性变化为+-+-彼此交替，若正电压变化=负电压变化，对VCOM的影响刚好抵销，反之若正电压变化大於负电压变化，则由於VCOM与Source Line上有寄生电容，因此会将VCOM上的电压往上拉，造成储存於液晶内的电压差值缩小，因此辉度会有所变化，而造成水平Crosstalk。

5. TFT-LCD生产流程

TFT-LCD的制造工艺 TFT-LCD的制造工艺有以下几部分：在TFT基板上形成TFT阵列；在彩色滤光片基板上形成彩色滤光图案及ITO导电层；用两块基板形成液晶盒；安装外围电路、组装背光源等的模块组装。 1. 在TFT基板上形成TFT阵列的工艺 现已实现产业化的TFT类型包括：非晶硅TFT（a-Si TFT）、多晶硅TFT（p-Si TFT）、单晶硅TFT(c-Si TFT)几种。目前使用最多的仍是a-Si TFT。 a-Si TFT的制造工艺是先在硼硅玻璃基板上溅射栅极材料膜，经掩膜曝光、显影、干法蚀刻后形成栅极布线图案。一般掩膜曝光用步进曝光机。第二步是用PECVD法进行连续成膜，形成SiNx膜、非掺杂a-Si膜，掺磷n+a-Si膜。然后再进行掩膜曝光及干法蚀刻形成TFT部分的a-Si图案。第三步是用溅射成膜法形成透明电极（ITO膜），再经掩膜曝光及湿法蚀刻形成显示电极图案。第四步栅极端部绝缘膜的接触孔图案形成则是使用掩膜曝光及干法蚀刻法。第五步是将AL等进行溅射成膜，用掩膜曝光、蚀刻形成TFT的源极、漏极以及信号线图案。最后用PECVD法形成保护绝缘膜，再用掩膜曝光及干法蚀刻进行绝缘膜的蚀刻成形，(该保护膜用于对栅极以及信号线电极端部和显示电极的保护)。至此，整个工艺流程完成。 TFT阵列工艺是TFT-LCD制造工艺的关键,也是设备投资最多的部分。整个工艺要求在很高的净化条件（例如10级）下进行。 2. 在彩色滤光片（CF）基板上形成彩色滤光图案的工艺 彩色滤光片着色部分的形成方法有染料法、颜料分散法、印刷法、电解沉积法、喷墨法。目前以颜料分散法为主。 颜料分散法的第一步是将颗粒均匀的微细颜料（平均粒径小于0.1μm）(R、G、B三色)分散在透明感光树脂中。然后将它们依次用涂敷、曝光、显影工艺方法，依次形成R. G. B三色图案。在制造中使用光蚀刻技术，所用装置主要是涂敷、曝光、显影装置。 为了防止漏光，在RGB三色交界处一般都要加黑矩阵（BM）。以往多用溅射法形成单层金属铬膜，现在也有改用金属铬和氧化铬复合型的BM膜或树脂混合碳的树脂型BM。 此外，还需要在BM上制做一层保护膜及形成IT0电极,由于带有彩色滤光片的基板是作为液晶屏的前基板与带有TFT的后基板一起构成液晶盒。所以必须关注好定位问题，使彩色滤光片的各单元与TFT基板各像素相对应。 3. 液晶盒的制备工艺 首先是在上下基板表面分别涂敷聚酰亚胺膜并通过摩擦工艺，形成可诱导分子按要求排列的取向膜。之后在TFT阵列基板周边布好密封胶材料，并在基板上喷洒衬垫。同时在CF基板的透明电极末端涂布银浆。然后将两块基板对位粘接，使CF图案与TFT像素图案一一对正，再经热处理使密封材料固化。在印刷密封材料时，需留下注入口，以便抽真空灌注液晶。 近年来,随着技术进步和基板尺寸的不断加大,在盒的制做工艺上也有很大的改进,比较有代表性的是灌晶方式的改变,从原来的成盒后灌注改为ODF法,即灌晶与成盒同步进行。另外.垫衬方式也不再采用传统的喷洒法,而是直接在阵列上用光刻法制作。 4. 外围电路、组装背光源等的模块组装工艺 在液晶盒制作工艺完成后，在面板上需要安装外围驱动电路，再在两块基板表面贴上偏振片。如果是透射型LCD.还要安装背光源。

6. TFT-LCD的全称是什么

TN Twisted Nematic 扭曲向列。液晶分子的扭曲取向偏转90° STN Super Twisted Nematic 超级扭曲向列专。约属180~270°扭曲向列 FSTN Formulated Super Twisted Nematic 格式化超级扭曲向列。一层光程补偿片加于STN，用于单色显示 TFT Thin Film Transistor 薄膜晶体管

7. 谁有有关TFT-LCD VCOM/VGH/VGL的相关知识

Thin Film Transistor 薄膜场效应晶体管，是指液晶显示器上的每一液晶象素点都是由集成在其后的薄膜晶体管来驱动。从而可以做到高速度高亮度高对比度显示屏膜信息。TFT属于有源矩阵液晶显示器。
TFT（Thin Film Transistor）即薄膜场效应晶体管，属于有源矩阵液晶显示器中的一种。它可以“主动地”对屏幕上的各个独立的像素进行控制，这样可以大大提高反应时间。一般TFT的反应时间比较快，约80毫秒，而且可视角度大，一般可达到130度左右，主要运用在高端产品。所谓薄膜场效应晶体管，是指液晶显示器上的每一液晶象素点都是由集成在其后的薄膜晶体管来驱动。从而可以做到高速度、高亮度、高对比度显示屏幕信息。TFT属于有源矩阵液晶显示器，在技术上采用了“主动式矩阵”的方式来驱动，方法是利用薄膜技术所作成的电晶体电极，利用扫描的方法“主动拉”控制任意一个显示点的开与关，光源照射时先通过下偏光板向上透出，借助液晶分子传导光线，通过遮光和透光来达到显示的目的。

TFT-LCD液晶显示屏是薄膜晶体管型液晶显示屏，也就是“真彩”(TFT)。TFT液晶为每个像素都设有一个半导体开关，每个像素都可以通过点脉冲直接控制，因而每个节点都相对独立，并可以连续控制，不仅提高了显示屏的反应速度，同时可以精确控制显示色阶，所以TFT液晶的色彩更真。TFT液晶显示屏的特点是亮度好、对比度高、层次感强、颜色鲜艳，但也存在着比较耗电和成本较高的不足。TFT液晶技术加快了手机彩屏的发展。新一代的彩屏手机中很多都支持65536色显示，有的甚至支持16万色显示，这时TFT的高对比度，色彩丰富的优势就非常重要了。

TFT型的液晶显示器主要的构成包括：萤光管、导光板、偏光板、滤光板、玻璃基板、配向膜、液晶材料、薄模式晶体管等等。

8. TFT LCD领域什么是AA区的外围空间

整个LCD玻璃的大小为外型尺寸(OD. Outline Dimension)
其中有设置显示点的区域为AA (Active Area)
OD区域扣除AA区域就是外围空间

9. 关于TFT-LCD常黑和常白的相关疑惑

首先，常黑常白两种模式的LCD，他们的选用的液晶以及摩擦后的配向角内都是不同的，
第二，一般的容LCD，不论常黑还是常白，上下两POL的光轴都是垂直的。
为什么会有常黑和常白？原因在旋光效应。
TN模式的LCD，液晶电压加在上下两基板上，是垂直的；IPS模式的LCD，液晶电压加在下基板上，是水平的，两种显示模式的不同，他们使用的液晶和液晶的初始配向也不同。
简单的说，常白模式就是光通过下侧的POL后，成为线偏振光，通过未加电压的液晶后，发生了旋光效应，偏振方向旋转90度，刚好与上侧POL的光轴方向相同，所以当液晶不加电时，LCD是亮的，是常白模式。
常黑模式的LCD，光通过下侧POL后，再经过未加电的液晶，不会发生旋光，出射后偏振方向与上侧POL的吸收轴相同，无法出射，所以是常黑的。

10. TFT-LCD 4.5代线的Array ，CF和CELL的工艺流程

大体上是Array：Thin Film Photo Etch Strip Anneal C/F ：ITO BM RGB OC PS CELL：1.C/F到cleaning到PI coating到Rubbing到LC Disp 2.TFT到cleaning到PI coating到Rubbing到Seal Disp 最后1和版2进行Vacuum Alingner（真空权对核）到Cutting到CELL Test到Mole